Растровый электронный микроскоп JSM-6380LV JEOL с системой микроанализа INCA 250

НазваниеРастровый электронный микроскоп JSM-6380LV JEOL с системой микроанализа INCA 250
Описание

Многоцелевой сканирующий (растровый) микроскоп JSM-6380LV – удобный, простой в управлении, исключительно надежный прибор для рутинных работ с компьютерным контролем и превосходными техническими характеристиками. Модель микроскопа сочетает в себе возможности работы как в стандартном, так и в LV режимах.

ВОЗМОЖНОСТИ ПРИБОРА, МЕТОДИКИ:

  1. Получение изображения морфологии поверхности проводящих и непроводящих материалов с нанометровым разрешением.
  2. Определение толщины покрытий, толщин слоев в планарных образцах.
  3. Определение размеров частиц и морфологии поверхности проводящих и непроводящих порошков.
  4. Элементный анализ проводящих и диэлектрических материалов с использованием энергодисперсионной приставки-спектрометра c пространственным разрешением ~1 мкМ. Возможности: выбор массива точек на изображении для последующего автоматического анализа состава, система ”Cameo” для визуализации различий фаз по химическому составу методом цветового кодирования энергетического спектра в каждой точке изображения, построение карт распределения фаз.

Особенности: Низковакуумный режим работы позволяет исследовать образцы без напыления токопроводящим слоем, в том числе образцы металлов, керамики, полимеров и композитов, в т.ч. образцы эмульсий частиц абразивного износа в смазочном масле, отработанные масляные фильтры, лакокрасочные покрытия и пр. образцы, которые не могут исследоваться в обычных высоковакуумных камерах электронных микроскопов.

Технические характеристики:

Наименование параметра

Значение параметра

Разрешение в высоковакуумном режиме

3,0 нм при 30кВ

Разрешение в низковакуумном режиме

4,0 нм при 30кВ

Тип источника электронов

W - катод

Ускоряющее напряжение

500 В - 30 кВ

Увеличение

х5 – x300 000

Режимы регистрации изображений

Вторичные электроны (SEI), Обратнорассеянные (BEI – изображение в режиме топографического, композиционного и полутеневого контраста)  

Столик для образцов

эвцентрический 5-ти осевой: перемещение по оси Х 125мм, Y: 100мм; Z: от 5 до 80мм; наклон: от –10 до +90°, вращение 360°

 

Фирма-изготовительJEOL
Страна-изготовительЯпония
Год выпуска2004